| 学術論文 |
| No. | 論文タイトル（題目） URL, 誌名(出版物名), 巻( 号), 開始ページ- 終了ページ, 出版年月（日）, DOI
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| 1 | RF Power Dependence on Structural and Electrical Properties of Cu Thin Films on a Glass Substrate Prepared Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement , IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, Vol. 140 ( No. 8), pp.188- pp.192, 2020年08月01日,
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| 2 | Gas Pressure Dependence on Structural and Electrical Properties of Ni Thin Films on an Acrylonitrile-Butadiene-Styrene Resin Prepared Using Unbalanced Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled Plasma , IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines, 140( 3), 60- 64, 2020年03月01日,
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| 3 | 早期に研究に着手した学生のその後と他への波及効果 , 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, 139( 11), 469- 477, 2019年11月01日,
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| 4 | Early education and its effect on students who desire to research their own topics before joining laboratories , 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, 13( 8), 1092- 1098, 2018年08月,
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| 5 | Preliminary simulation of Magenetron supttering using Pegasus Software , ELECTROTECHNICA & ELECTRONICA, E+E, 53( 7-8), 181- 184, 2018年06月,
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| 6 | スパッタ法におけるイオン照射効果制御を用いた薄膜形成技術の開発 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 60( 3), 81- 84, 2017年03月23日,
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| 7 | イリジウム被覆型プローブの開発 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 60( 3), 92- 95, 2017年03月,
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| 8 | 工学教育におけるアクティブラーニング電子情報工学科の基礎科目における実践報告 , 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, 136( 10), 657- 662, 2016年10月,
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| 9 | RF マグネトロンスパッタ法により作製した ZnO 薄膜に及ぼすイオン照射の影響 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 58( 9), 351- 355, 2015年09月,
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| 10 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極型マグネトロンスパッタ法により柔軟性素材上に作製した Ni 薄膜に及ぼすイオン照射の効果 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 58( 8 p.319-323), 319- 323, 2015年08月,
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| 11 | 誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法によりアクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂上に作製したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 58( 7), 257- 260, 2015年07月,
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| 12 | プラズマベースイオン注入法を用いた酸素プラズマの生成と耐熱性芽胞菌の殺菌への応用 , 電気学会論文誌Ａ（基礎・材料・共通部門誌）, 135( 6), 373- 378, 2015年02月,
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| 13 | プラズマベースイオン注入(PBII)法を用いた自己点弧プラズマの生成 , 光アライアンス, 25( 11), 40- 43, 2014年11月,
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| 14 | プラズマベースイオン注入（PBII）法を用いたプラズマ密度の算定 , 光アライアンス, 25( 9), 53- 57, 2014年09月,
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| 15 | Estimation of Self-Ignited Plasma Density Using Plasma-Based Ion Implantation , ELECTROTECHNICA & ELECTRONICA, E+E, 49( 5-6), 348- 351, 2014年05月05日,
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| 16 | Pulse Width Dependence of the Self-Ignited Plasma Using a Plasma-Based Ion Implantation , ELECTROTECHNICA & ELECTRONICA, E+E, 49( 5-6), 329- 333, 2014年05月05日,
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| 17 | Comparison of Plasma Spectral Characteristics Using a Plasma- Based Ion Implantation , ELECTROTECHNICA & ELECTRONICA, E+E, 49( 5-6), 339- 342, 2014年05月05日,
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| 18 | Preliminary Estimation of Incident Ion Energy by Using Simulation Software (PEGASUS) , ELECTROTECHNICA & ELECTRONICA, E+E, 49( 5-6), 334- 338, 2014年05月05日,
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| 19 | プラズマベースイオン注入(PBII)法を用いた窒素ガスによる自己点弧プラズマの密度算定 , Journal of the Vacuum Society of Japan, 57( 5), 189- 192, 2014年05月,
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| 20 | プラズマベースイオン注入(PBII)法を用いた窒素ガスとアルゴンガスの自己点弧プラズマの点灯のタイミング , Journal of the Vacuum Society of Japan, 57( 5), 193- 196, 2014年05月,
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| 21 | Effects of magnetic flux density and substrate bias voltage on Ni films prepared on a flexible substrate material using unbalanced magnetron sputtering assisted by inductively coupled plasma , Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 32( 2), 02B104-1- 02B104-4, 2014年03月,
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| 22 | Trap density of GeNx/Ge interface fabricated by electron-cyclotron-resonance plasma nitridation , Applied Physics Letters, 99, 022902-1- 022902-3, 2011年07月,
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| 23 | Effects of postdepostion annealing ambient on hysteresis in an Al2O3/GeO2 gate-dielectric stack on Ge , Journal of Applied Physics, 110, 026108-1- 026108-3, 2011年07月,
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| 口頭発表 |
| No. | 講演・口頭発表タイトル, URL, 発表機関, 発表年月日, 誌名, 巻( 号), 開始ページ- 終了ページ, 出版年月（日）
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| 1 | 多重磁極マグネトロンスパッタ法を用いてガラス基板上へ作製したCo薄膜の物性評価によるイオン照射効果の検討, , 2021年度（第72回）電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2021年10月23日, , , none- none,
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| 2 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によりフッ素樹脂基板上に作製したNi薄膜のイオン照射効果の検討, , 2021年度（第72回）電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2021年10月23日, , , none- none,
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| 3 | 薄膜物性評価に用いる画像処理技術に関する研究, , 2020年度(第71回)電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2020年10月24日, , , none- none,
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| 4 | 異なるスパッタ法を用いてガラス基板上へ作製したCu 薄膜の物性評価によるイオン照射効果の検討, , 2019年度（第70回）電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2019年10月26日, , , none- none,
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| 5 | 異なるスパッタ法を用いて工業用プラスチック上へ作製した Ni 薄膜の物性評価によるイオン照射効果, , 2019年度（第70回）電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2019年10月26日, , , none- none,
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| 6 | 多重磁極マグネトロンスパッタ法によりガラス基板上に作製した Cu 薄膜の膜厚依存性, , 2019年度（第70回）電気・情報関連学会中国支部連合大会, 2019年10月26日, , , none- none,
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| 7 | RF power and gas pressure dependences on structural and electrical properties of Cu thin films on a glass substrate prepared using magnetron sputtering with multipolar magnetic plasma confinement, , The Fifteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2019), 2019年07月13日, , , 117- 120,
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| 8 | Gas pressure dependence on structural and electrical properties of Ni thin films on an acrylonitrile-butadiene-styrene resin prepared using unbalanced magnetron sputtering assisted by inductively coupled plasma, , The Fifteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2019), 2019年07月13日, , , 105- 108,
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| 9 | RFマグネトロンスパッタ法によりガラス基板上に作製したCu薄膜のRF電力及びArガス圧力依存性, , 平成30年度（第69回）電気・情報関連学会 中国支部連合大会, 2018年10月20日, , , none- none,
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| 10 | 多重磁極マグネトロンスパッタ法によりガラス基板上に作製したCu薄膜の基板温度依存性, , 平成30年度（第69回）電気・情報関連学会 中国支部連合大会, 2018年10月20日, , , none- none,
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| 11 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により柔軟性基板上に作製したNi薄膜のターゲット電力依存性, , 平成30年度（第69回）電気・情報関連学会 中国支部連合大会, 2018年10月20日, , , none- none,
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| 12 | Preliminary simulation of Magenetron supttering using Pegasus Software, , EBT2018, 2018年06月, , , 50- 50,
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| 13 | Control of plasma by Penning ion effect, , EBT2018, 2018年06月, , , 54- 54,
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| 14 | Target DC power dependence on structural and electrical properties of Ni films on flexible substrate prepared using magnetron sputtering with multipolar magnetic plasma confinement assisted by inductively coupled plasma, , The Fourteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2017), 2017年07月06日, , , 167- 169,
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| 15 | RF power and gas pressure dependences on structural, electrical and optical properties of Al doped ZnO films on glass substrate prepared using magnetron sputtering with multipolar magnetic plasma confinement, , The Fourteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2017), 2017年07月06日, , , 163- 166,
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| 16 | 多重磁極マグネトロンスパッタ法により作製した アルミニウム添加酸化亜鉛薄膜の膜厚依存性, , 第3回電子デバイス・回路・照明・システム関連教育・研究ワークショップ, 2016年05月28日, , , none- none,
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| 17 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により柔軟性素材上及びSi基板上に作製したNi薄膜のRF圧力依存性, , 2015年真空・表面科学合同講演会（第56回真空に関する連合講演会 講演予稿集）, 2015年12月01日, , , 61- 61,
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| 18 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によりABS樹脂上に作製したNi薄膜のガス圧力依存性, , 平成27年度日本真空学会11月研究例会, 2015年11月17日, , , 28- 28,
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| 19 | スパッタ法におけるイオン照射効果制御を用いた薄膜形成技術の開発, , 平成27年度日本真空学会11月研究例会, 2015年11月17日, , , 20- 24,
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| 20 | Effect of ion irradiation on structural electrical and optical properties of Al doped ZnO films prepared using RF magnetron sputtering, , The Thirteenth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2015), 2015年07月10日, , , 341- 344,
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| 21 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によりABS樹脂状に作製したNi薄膜のガス圧力依存性, , 第1回電子デバイス回路・照明システム関連教育・研究ワークショップ, 2015年05月13日, , , 19- 19,
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| 22 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法によりABS樹脂上に作製したNi薄膜の膜厚依存性, , 第62回応用物理学会春季学術講演会, 2015年03月, , , 07-054- 07-054,
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| 23 | RFマグネトロンスパッタ法により作製したZnO薄膜に及ぼすイオン照射の効果, , 第55回真空に関する連衡後援会講演予稿集, 2014年11月18日, , , 38- 38,
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| 24 | 誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法によりABS樹脂上に作製したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果, , 第55回真空に関する連衡後援会講演予稿集, 2014年11月18日, , , 35- 35,
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| 25 | 誘導結合プラズマ支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法により柔軟性素材上に作製したNi薄膜のRF電力依存性, , 第55回真空に関する連衡後援会講演予稿集, 2014年11月18日, , , 39- 39,
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| 26 | プラズマベースイオン注入法を用いたRFバーストプラズマによる放電特性, , 静電気学会講演論文集, 2014年09月, , , 35- 36,
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| 27 | Comparison of plasma spectral characteristics using a plasma-based ion implantation, , EBT2014, 2014年06月10日, , , none- none,
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| 28 | Estimation of self-ignited plasma density by using plasma-based ion implantation, , EBT2014, 2014年06月10日, , , none- none,
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| 29 | Pulse width dependence of the self-ignited plasma using a plasma-based ion implantation, , EBT2014, 2014年06月10日, , , none- none,
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| 30 | Preliminary estimation of incident ion energy by using simulation software (PEGASUS), , EBT2014, 2014年06月10日, , , none- none,
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| 31 | Effects of deposition conditions on ZnO thin film prepared using RF magnetron sputtering, , 41st ICMCTF, 2014年05月01日, , , 99- 99,
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| 32 | Effect of ion irradiation on Ni films prepared on a flexible substrate material using unbalanced magnetron sputtering assisted by inductively coupled plasma, , 41st ICMCTF, 2014年05月01日, , , 99- 99,
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| 33 | Comparison of the properties of traps in Ge-MIS structure by conductance method and deep level transient spectroscopy (DLTS), , 7th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics, 2014年01月28日, , , O-5- O-5,
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| 34 | RFマグネトロンスパッタにより作製したZnO薄膜に及ぼす成膜条件の影響, , 第54回真空に関する連合講演会(つくば国際会議場), 2013年11月26日, , , 87- 87, 2013年
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| 35 | PBII法を用いた窒素ガスとアルゴンガスの自己点弧プラズマの点灯のタイミング, , 第54回真空に関する連合講演会(つくば国際会議場), 2013年11月26日, , , 85- 85,
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| 36 | PBII法を用いた窒素ガスによる自己点弧プラズマの密度算定, , 第54回真空に関する連合講演会(つくば国際会議場), 2013年11月26日, , , 84- 84,
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| 37 | Effects of magnetic flux density and substrate bias voltage on Ni films prepared on the flexible material substrate using unbalanced magnetron sputtering assisted by inductively coupled plasma, , The twelfth International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2013), 2013年07月10日, , , 66- 69,
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| 38 | DLTS Evaluation of GeNX/Ge Structure Fabricated by ECR-Plasma Technique, , 4th International Workshop on Nanostructure & Nanoelectronics (Research Institute of Electrical Communication Tohoku University), 2013年03月07日, , , none- none,
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| 39 | 誘導結合プラズマ支援型非平衡マグネトロンスパッタ法により作成したNi薄膜に及ぼすイオン照射の効果, , 平成24年度電気学会電子・情報・システム部門大会, 2012年09月07日, , , 1660- 1663,
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| 40 | ICP支援型多重磁極マグネトロンスパッタ法による柔軟性素材上へのNi薄膜の作製と評価, , 平成24年電気学会全国大会, 2012年03月21日, , , 245- 245,
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| 41 | 内視鏡用シングルファイバ観察機構の検討, , 2011 精密工学会東北支部学術講演会, 2011年10月21日, , , 13- 14,
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| 42 | Flat band shift for MIS with insulator gate deposited by an electron cyclotron resonance sputter, , The Eleventh International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2011), 2011年07月06日, , , 23- 25,
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| 43 | Investigation of zinc-compound transparent conductive films deposited by using an electron cyclotron resonance sputtering, , The Eleventh International Symposium on Sputtering and Plasma Process (ISSP2011), 2011年07月06日, , , 87- 90,
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| 44 | Interface properties of GeNx/Ge fabricated by Electron-Cyclotron-Resonance plasma nitridation, , Materials Research Society (2011 MRS Spring Meeting), 2011年04月27日, , , 4- 6,
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